目次

第1章 序論

1-1 X線(蛍光X線)による表面分析

p6

1-2 X線の屈折現象

p8

1-3 蛍光X線の屈折現象を利用した新しい表面分析法の検討

p10

第2章 原理と実験方法

2-1 X線の屈折率と全反射現象

p15

2-2 レーザを用いた表面ラフネスの測定原理

p21

2-3 X線の入射角

p25

2-4 蛍光X線の取り出し角

p28

2-5 試料薄膜の作製

p29

2-6 イオン･インプランテーション

p30

第3章 蛍光X線強度の取り出し角分布

3-1 X線垂直入射による蛍光X線強度の取り出し角依存性

p34

3-2 全反射X線入射による蛍光X線強度の取り出し角依存性-I(基板に多結晶を用いた場合)

p40

3-3 全反射X線入射による蛍光X線強度の取り出し角依存性-II(基板に単結晶を用いた場合)

p47

3-4 MBE法により作製したGaAs超薄膜

p58

3-5 基板の表面ラフネス依存性

p63

3-6 蛍光X線の取り出し角強度分布の膜厚依存性

p67

3-7 コッセル線について

p71

3-8 まとめ

p79

第4章 屈折蛍光X線(RXF)の発生メカニズム

4-1 水溶液滴下による成膜

p83

4-2 蛍光X線強度の取り出し角分布I(θt)の数式化

p88

4-3 パラメータとしての膜厚と表面ラフネス

p100

4-4 まとめ

p103

第5章 屈折蛍光X線(RXF)の応用

5-1 Pb､Cu基板におけるI(θt)

p106

5-2 不連続膜から連続膜への変化

p114

5-3 Au/Mn系における表面反応

p121

5-4 蛍光X線の干渉効果(Kiessig's Fringes)

p130

5-5 新しい分光システム:RDS

p143

5-6 非破壊深さ分析

p150

5-7 有機薄膜の配向分析

p171

第6章 屈折蛍光X線(RXF)の定量化

6-1 定量化のための2つの考察

p182

6-2 自己吸収効果の低減

p193

第7章 総論

7-1 結論

p199

7-2 X線の屈折現象の行方

p203